一种非显影式的光刻方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种非显影式的光刻方法,包括以下步骤:步骤1:光刻光和指引光分别通过第一准直透镜和第二准直透镜进行准直处理;步骤2:经由二向色镜合束,通过聚焦透镜射入匀光模组的入射端面;步骤3:通过匀光模组后的光线再次通过第三准直透镜;步骤4:准直光通过反射镜反射至第一分光片,并由第一分光片将一部分分光反射至光掩模板上;步骤5:反射回来的光将带有光掩模板上的信息,并通过第二分光片和照明光进行合束处理;步骤6:合束后将带有信息的光通过第三分光片,光束打到基底上的光刻胶,照射出光掩模板上面的信息;步骤7:由相机对样品进行实时成像观测。本发明能实时进行观测产品,同时能简化光刻工艺流程,提高精度。
基本信息
专利标题 :
一种非显影式的光刻方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114518694A
申请号 :
CN202011309897.8
公开(公告)日 :
2022-05-20
申请日 :
2020-11-20
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
严振中吴阳
申请人 :
赫智科技(苏州)有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区若水路388号H402室
代理机构 :
北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
廖娜
优先权 :
CN202011309897.8
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-07 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20201120
申请日 : 20201120
2022-05-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载