一种半导体芯片光刻显影用装置
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摘要

一种半导体芯片光刻显影用装置,其特征是:操作台一侧上的电机与主动轴一端传动联接;主动轴另一端从操作台左右两端部上的转轴支座中水平伸出,以及主动轴两端分别固定设有偏心轮;两上摇臂上头分别与相应的偏心轮外环活动套接,两上摇臂下头分别通过两连接杆与两下摇臂上头连接,两下摇臂下头分别与两连杆上头的固定轴销活动套接;两连杆中部分别设有滑块与操作台左右两边相应的竖立导轨滑动连接;两连杆下头分别与摇晃杆两头固定连接。它具有操作省力、加工效率高和加工质量稳定等优点。

基本信息
专利标题 :
一种半导体芯片光刻显影用装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921007866.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-01
授权号 :
CN209911759U
授权日 :
2020-01-07
发明人 :
项卫光李有康徐伟李晓明张宏超
申请人 :
浙江正邦电子股份有限公司
申请人地址 :
浙江省丽水市缙云县五东工业区浙江正邦电子股份有限公司
代理机构 :
浙江杭州金通专利事务所有限公司
代理人 :
柯利进
优先权 :
CN201921007866.X
主分类号 :
G03F7/30
IPC分类号 :
G03F7/30  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/30
用液体消除影像的
法律状态
2020-01-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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