纳米压印模具、制作方法及指纹识别芯片的制作工艺
公开
摘要
本发明提供一种纳米压印模具、制作方法及指纹识别芯片的制作工艺，其中，所述纳米压印模具的制作方法，包括：在半导体衬底上依次形成多层厚度可控的半导体膜，并对其中至少一层半导体膜进行高精度的图形化，以通过这些图形化的半导体膜的组合，形成三维立体的所述纳米压印模具。所述纳米压印模具的形状能够通过图形化的半导体膜的精准控制，实现高精度可控的形状。可用以匹配任意指纹识别芯片微镜头以及其他CMOS图像传感器的微镜头。
基本信息
专利标题 ：
纳米压印模具、制作方法及指纹识别芯片的制作工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114624956A
申请号 ：
CN202011438609.9
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2020-12-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杜柯张超
申请人 ：
格科微电子（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区张江盛夏路560号2号楼11层
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202011438609.9
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 B82Y40/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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