芯片及其制作方法
实质审查的生效
摘要

本申请公开了芯片及其制作方法,所述芯片包括依次堆叠设置的硅片、外延层和势垒层,所述硅片的其中一面上设有沟槽,所述外延层和势垒层设置在所述硅片中设有沟槽的一面上,且覆盖所述沟槽;所述势垒层、势垒层正下方的外延层形成势垒区。本申请通过在硅片的表面设置沟槽,使得势垒区的面积增大,进而使得势垒区可以承受的电流密度增加,导致芯片的正向压降降低,这样在相同的芯片尺寸下,本申请由于正向压降较低就有了明显的优势,使得产品竞争力得到了提高。

基本信息
专利标题 :
芯片及其制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114361237A
申请号 :
CN202110289994.3
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2021-03-18
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
史仁先王国峰
申请人 :
青岛惠科微电子有限公司;青岛惠芯微电子有限公司;北海惠科半导体科技有限公司
申请人地址 :
山东省青岛市即墨区北安街道办事处太吉路1号
代理机构 :
深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
邢涛
优先权 :
CN202110289994.3
主分类号 :
H01L29/06
IPC分类号 :
H01L29/06  H01L29/872  H01L21/329  
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 29/06
申请日 : 20210318
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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