一种适用于大尺寸硅片的炉腔温控装置
授权
摘要

本实用新型涉及光伏技术领域,公开了一种适用于大尺寸硅片的炉腔温控装置,包括主体,所述主体的内部设置有空腔,所述空腔内壁的两侧设置有固定座,所述固定座的内部设置有第一加热管,所述主体的外侧设置有凹槽,所述凹槽的内部设置有固定环,所述固定环与凹槽之间设置有轴承,所述固定环的外侧设置有第二加热管,所述主体的一侧固定有连接盘,所述连接盘的外侧设置有连接块,所述连接块的外侧固定有卡块。本实用新型通过设置的卡块和卡槽,根据卡块的大小与卡槽相匹配,使得五组主体能够成为独立的个体,以便于后期的维修更换工作,在进行连接时,也只需将卡块对应插入卡槽内并随卡槽的轨迹进行转动即可完成固定,方便快捷,灵活性高。

基本信息
专利标题 :
一种适用于大尺寸硅片的炉腔温控装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020003995.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-02
授权号 :
CN211782827U
授权日 :
2020-10-27
发明人 :
仇慧生
申请人 :
环晟光伏(江苏)有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市宜兴市经济开发区文庄路20号
代理机构 :
天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
栾志超
优先权 :
CN202020003995.8
主分类号 :
F27D19/00
IPC分类号 :
F27D19/00  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D
一种以上的炉通用的炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉的零部件或附件
F27D19/00
控制装置的配置
法律状态
2020-10-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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