一种晶圆片平面测量仪
授权
摘要
本实用新型公开了一种晶圆片平面测量仪，包括主机架；副机架，所述副机架顶部固定设有测试模组；其中，所述气浮平台上设有用于放置待测片的旋转放置平台和垂直于台面的标准平镜；所述旋转放置平台包括固定底座和转动连接在固定底座上的旋转底座，所述旋转底座至少包括一个用于测试时的竖直状态，所述旋转底座的一端设有抱持机构；在所述旋转底座上与所述抱持机构相对的另一端设有滑座，所述滑座上设有丝杆和与丝杆连接的滑动块，滑动块上设有推杆，用于推动被测片。本实用新型的优点是：通过增加推杆能够使晶圆片在竖直状态下受支撑产生的形变得到消除，提高测试的精确度，同时晶圆片竖直放置，减小了传统测试方法中重力对晶圆片的影响。
基本信息
专利标题 ：
一种晶圆片平面测量仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020005939.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-03
授权号 ：
CN211552798U
授权日 ：
2020-09-22
发明人 ：
陈跃华彭从峰卜志超陈时兴
申请人 ：
浙江百盛光电股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市南湖区余新镇新盛路262号1幢
代理机构 ：
杭州凌通知识产权代理有限公司
代理人 ：
李仁义
优先权 ：
CN202020005939.8
主分类号 ：
G01B21/30
IPC分类号 ：
G01B21/30 H01L21/66
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B21/26
••用于检测轮子的准直度
G01B21/30
用于计量表面的粗糙度或不规则性
法律状态
2020-09-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
