一种等离子体刻蚀机用匀气盘

专利申请权、专利权的转移

摘要

本实用新型公开了一种等离子体刻蚀机用匀气盘，包括安装罩，所述安装罩顶端旋转安装有衔接管，所述安装罩底端旋转安装有衔接罩，所述衔接罩内部底端开设有安装槽，所述安装槽内旋转安装有供气盒，所述供气盒底端表面镶嵌有均气盘，本实用新型通过供气盒顶端表面镶嵌的一号进气管和二号进气管，便利于通过一号进气管和二号进气管不同的口径来改变气体进入供气盒内的压强与气体量，从而以便气体均匀的由均气盘排出，可避免因单独供气管道供气气体集中作用于部分出气孔，导致排气不均匀影响等离子体刻蚀操作的情况出现。

基本信息

专利标题：

一种等离子体刻蚀机用匀气盘

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020069857.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-01-14

授权号：

CN211629036U

授权日：

2020-10-02

发明人：

廖海涛王斌

申请人：

无锡市邑勉微电子有限公司

申请人地址：

江苏省无锡市新吴区金城东路333-1-801

代理机构：

常州唯思百得知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

金辉

优先权：

CN202020069857.X

主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01J37/32