一种化学气相沉积催化反应装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种化学气相沉积催化反应装置，包括：反应炉，内部形成反应空间；基座，设置于反应空间内；分隔件，将反应空间分隔为沉积空间和防护空间，基座的一端设置于沉积空间内、另一端延伸至防护空间内，基座与分隔件转动连接；加热线圈，设置于防护空间内、并靠近于分隔件；驱动轴，设置于防护空间内、并具有与基座靠近的一端；基座与驱动轴相互靠近的一端截面为形状相同圆面、且至少一个具有磁性部。通过驱动轴与基座想靠近一端设置的磁性部的相互作用，驱动轴能够对基座产生作用，带动基座转动；同时，由于将驱动轴与基座分隔设置，能够防止基座的热量直接传递至驱动轴，减少对驱动轴热损伤。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积催化反应装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020103153.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-17
授权号 ：
CN211546660U
授权日 ：
2020-09-22
发明人 ：
单金灵
申请人 ：
长江大学
申请人地址 ：
湖北省荆州市南环路1号
代理机构 ：
武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
赵泽夏
优先权 ：
CN202020103153.X
主分类号 ：
C23C16/18
IPC分类号 ：
C23C16/18 C23C16/458
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/06
以金属材料的沉积为特征的
C23C16/18
自有机金属化合物
法律状态
2020-09-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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