一种铜箔基板显影系统水洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种铜箔基板显影系统水洗装置，包括进料口和控制器，所述控制器设置在所述进料口的下方，所述进料口与第一输送道连接，所述第一输送道的上方设有第一洒水头和第二洒水头，所述第一洒水头和第二洒水头之间设有第一分隔板，所述第二洒水头远离所述第一洒水头的一端设有第二分隔板，所述第一洒水头与显影液箱连接，所述第二洒水头与水箱连接，所述第一输送道设有多个漏水孔，所述所述第一输送道的下方设有回收道，所述回收道与回收箱连接，本实用新型能有效提高铜箔基板的显影效率，而且设有涂胶系统，对铜箔基板的表面进行保护处理。
基本信息
专利标题 ：
一种铜箔基板显影系统水洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020126886.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-19
授权号 ：
CN211528908U
授权日 ：
2020-09-18
发明人 ：
赖志晴
申请人 ：
江门市江海区创辉特电子有限公司
申请人地址 ：
广东省江门市江海区江睦路115号3幢第四层403室
代理机构 ：
北京卓特专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
段宇
优先权 ：
CN202020126886.5
主分类号 ：
G03F7/30
IPC分类号 ：
G03F7/30 G03F7/40
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/30
用液体消除影像的
法律状态
2020-09-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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