靶材溅射装置及其成膜装置
授权
摘要
本申请公开一种靶材溅射装置，包括：用于支撑靶材的支撑壳体；所述支撑壳体背对所述靶材的一侧设有两个或更多个用于输入溅射气体的气体输入部；所述支撑壳体设有所述靶材的一侧具有用于输出所述溅射气体的气体输出部；至少两个所述气体输入部位于所述支撑壳体的不同位置。本申请所提供的一种靶材溅射装置及其成膜装置能够在校正膜厚的基础上，避免降低溅射效率。
基本信息
专利标题 ：
靶材溅射装置及其成膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020180266.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-18
授权号 ：
CN211522309U
授权日 ：
2020-09-18
发明人 ：
长江亦周菅原卓也宫内充祐山本摄也
申请人 ：
株式会社新柯隆
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
周达
优先权 ：
CN202020180266.X
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/35
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-09-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN211522309U.PDF
PDF下载
