一种多弧离子镀设备的防溅射结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种多弧离子镀设备的防溅射结构,包括底座和安装在底座上的机架;所述底座上安装有底板;所述底板上安装有机架;所述机架包括凹凸块和定位块;其特征是所述底板外安装有挡板。本实用新型结构简单,使用方便,能够有效的防止设备内产生的残渣碎屑掉落到设备的核心部位,使设备能够正常运行,提高设备的运行效果和功效。
基本信息
专利标题 :
一种多弧离子镀设备的防溅射结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020548943.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-15
授权号 :
CN211814633U
授权日 :
2020-10-30
发明人 :
冷长志
申请人 :
杭州云度新材料科技有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市富阳区富春街道文居街1859号
代理机构 :
杭州永绎专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
许传秀
优先权 :
CN202020548943.9
主分类号 :
C23C14/32
IPC分类号 :
C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法;蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2020-10-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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