一种用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置
授权
摘要
本实用新型实施例公开了一种用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置。搅动装置包括：混气罐，设置于该混气罐内部的搅动组件；其中，混气罐的一端面设置有进气孔，另一端面与化学气相沉积(CVD)炉体连通；搅动组件包括轴体和沿轴体的周向均匀设置的至少三个叶片，轴体的两端一一对应的固设于混气罐的两端，且叶片与轴体的垂直面具有预设夹角。本实用新型实施例解决了现有制造碳刹车盘的工艺中，由于通入CVD炉的碳源气体难以快速混合均匀，而导致CVD炉中的碳源气体不能充分反应，从而造成反应速率下降，以及原料气体反应不充分而造成浪费的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种用于化学气相沉积炉内气体混合的搅动装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020622569.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-22
授权号 ：
CN212800532U
授权日 ：
2021-03-26
发明人 ：
李培元杨睿欣杜淑娣薛亮
申请人 ：
西安航空制动科技有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区科技七路5号
代理机构 ：
中国航空专利中心
代理人 ：
王世磊
优先权 ：
CN202020622569.2
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-03-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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