一种光刻图形版
授权
摘要
本实用新型涉及一种光刻图形版，包括透明的基版，所述基版的一个表面设有图形层，所述图形层由多个光学零件图形构成；所述图形层中，相邻光学零件图形之间留有间隙。本实用新型的光刻图形版在应用时，光学零件图形的脱铬及崩边率大大的降低，提高了切割的良品率，降低了生产成本。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻图形版
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020662009.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-27
授权号 ：
CN211786583U
授权日 ：
2020-10-27
发明人 ：
邹梦江启明范海文
申请人 ：
长沙韶光铬版有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市芙蓉区长榔路88号
代理机构 ：
长沙正奇专利事务所有限责任公司
代理人 ：
马强
优先权 ：
CN202020662009.X
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2020-10-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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