一种硅片清洗装置用辅助提升装置
授权
摘要
本实用新型涉及硅片制造领域的一种硅片清洗装置用辅助提升装置，包括清洗装置本体，所述清洗装置本体包括进料口端和出料口端，所述清洗装置本体的底部设置有缓震底座，清洗装置本体的一侧设置有操作平台，所述清洗装置本体由若干组独立的清洗机构组成，每组清洗机构包括辅助提升机构，配合辅助提升机构设置的上下驱动组件，配合辅助提升机构设置的清洗箱体，所述辅助提升机构通过驱动组件在清洗箱体内进行上下移动；该实用新型提供一种硅片清洗装置用辅助提升装置，能够稳定的对需要进行清洗的硅片进行上下升降清洗，确保工作平稳，避免的硅片在升降过程中损坏。
基本信息
专利标题 ：
一种硅片清洗装置用辅助提升装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020662231.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-27
授权号 ：
CN212733318U
授权日 ：
2021-03-19
发明人 ：
嵇峰
申请人 ：
江苏晶科天晟能源有限公司
申请人地址 ：
江苏省扬州市宝应县氾水镇工业集中区跃胜路
代理机构 ：
南京苏科专利代理有限责任公司
代理人 ：
陈亮
优先权 ：
CN202020662231.X
主分类号 ：
B08B3/10
IPC分类号 ：
B08B3/10 B08B13/00 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
法律状态
2021-03-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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