一种硅片清洗辅助架
授权
摘要
一种硅片清洗辅助架,包括:前置板、后置板、支撑栏杆、支撑底座,所述前置板和后置板平行设置,所述支撑栏杆设置在前置板和后置板之间,且所述支撑栏杆有两个对称设置在前置板和后置板的上端;所述支撑底座设置在前置板和后置板的下端部,且所述支撑底座的两端部分别约前置板和后置板的底部居中处连接。可使硅片排列均匀、放置稳定;进一步保障自动化硅片清洗的可行性;底座的夹板可对硅片进行夹持,进一步提高稳定性,且清洗完成后可直接将支撑底座可硅片同时取出,方便后续操作。
基本信息
专利标题 :
一种硅片清洗辅助架
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021870250.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-01
授权号 :
CN213134254U
授权日 :
2021-05-07
发明人 :
商炜
申请人 :
镇江晶鼎光电科技有限公司
申请人地址 :
江苏省镇江市新区潘宗路38号健康食品产业园13号楼
代理机构 :
苏州市方略专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
李玉婷
优先权 :
CN202021870250.8
主分类号 :
B08B3/08
IPC分类号 :
B08B3/08 B08B13/00
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/08
具有化学作用或溶解作用的液体
法律状态
2021-05-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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