一种防止打火的等离子刻蚀装置的下电极结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种防止打火的等离子刻蚀装置的下电极结构，包括下电极和外部进气通道；下电极的上表面设置有冷却气槽；冷却气体经外部进气通道进入冷却气槽；外部进气通道内靠近下电极的一端沿气流方向嵌入设置有多个首尾相连的毛细管；每个毛细管的两端均设置有台阶沉槽；每个毛细管包括多个沿气流方向的流通支管；流通支管的两端开设在台阶沉槽的槽底；相邻的两个毛细管的流通支管交错布置。本实用新型通过毛细管将冷却气体分流；相邻的两个毛细管的流通支管交错布置，从而在流动方向不会有较长的线性冷却气体的流动通道，进一步分隔减小了冷却气体通道的空间，防止打火；毛细管两端的台阶沉槽可防止流通支管的堵塞。
基本信息
专利标题 ：
一种防止打火的等离子刻蚀装置的下电极结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020751930.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-09
授权号 ：
CN211957593U
授权日 ：
2020-11-17
发明人 ：
王铖熠刘小波郭颂侯永刚李娜张军胡冬冬许开东
申请人 ：
北京鲁汶半导体科技有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区北京经济技术开发区经海二路28号4幢2层203
代理机构 ：
南京经纬专利商标代理有限公司
代理人 ：
肖鹏
优先权 ：
CN202020751930.1
主分类号 ：
H01J37/04
IPC分类号 ：
H01J37/04
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/04
电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置，如电子光学装置，离子光学装置
法律状态
2020-11-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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