一种刻蚀机用刻蚀电极的下电极结构
授权
摘要
本实用新型涉及刻蚀机用刻蚀电极结构技术领域，具体涉及一种刻蚀机用刻蚀电极的下电极结构，包括下电极托盘和支撑托盘，下电极托盘的底部设有支撑托盘，下电极托盘的底部和支撑托盘的顶部均均匀开设有若干凹槽，且上下两侧凹槽内放置有多程U型管，下电极托盘的顶部均匀开设有放置槽，放置槽的底部轴心处开设有第一吸附孔，本实用新型提供了一种刻蚀机用刻蚀电极的下电极结构，通过一系列结构的设计和使用，避免了大多对下电极托盘上放置的晶片经底部进行通入冷却气流进行冷却的方式，但通入的冷却气流会使放置的晶片发生偏移现象，导致刻蚀效果差的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种刻蚀机用刻蚀电极的下电极结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021751227.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-20
授权号 ：
CN212542351U
授权日 ：
2021-02-12
发明人 ：
任志强陆桥宏王小艳何东旺
申请人 ：
无锡展硕科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市梁溪区市会北路26-18
代理机构 ：
无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨立秋
优先权 ：
CN202021751227.7
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2021-02-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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