本实用新型属于等离子刻蚀技术领域，具体涉及一种用于低温与高温刻蚀工艺的电极结构，包括电极本体，电极本体包括从上到下依次设置的加热台和水冷板，加热台底部设置有氦气输送外接管、测温器安装管、加热组件出线管，氦气输送外接管、测温器安装管、加热组件出线管均设置为套管结构，套管结构包括同轴安装的内管和外管，内管顶端与加热台下表面接触，外管顶端与水冷板下表面接触；套管结构在远离水冷板的位置处，于内管的外壁与外管的内壁之间，以及套管结构的外管与水冷板下表面接触位置均设置有密封组件。所述电极装置用于承载晶圆，同时结合所述调控方法为晶圆提供刻蚀工艺所需合适的温度。