本实用新型提供一种可过滤电镀液槽及晶圆电镀设备。该可过滤电镀液槽包括：底座；阳极，所述阳极安装在所述底座上；和过滤膜，所述过滤膜安装在所述底座上并位于所述阳极的轴向一侧，用于过滤电镀液中的杂质。本实用新型提供的可过滤电镀液槽及晶圆电镀设备中，电镀液进入电镀液槽后会经过过滤膜，可排除电镀液中的气泡等杂质。电镀液的气泡等杂质被去除，电镀液的分布均匀，可获得较佳的电镀效果。过滤膜为阳离子选择性半透膜，只允许阳离子通过，阻止高分子材料通过，尤其是阻止电镀液中的高分子添加剂通过，可避免高分子添加剂与阳极接触而产生反应，避免高分子添加剂无谓的消耗，避免浪费，高分子添加剂可使用时间长。