用于晶圆电镀设备的盖子及晶圆电镀设备
授权
摘要

本实用新型提供一种用于晶圆电镀设备的盖子及晶圆电镀设备。该盖子包括:晶圆夹持件,用于固定晶圆;和第二驱动机构,所述第二驱动机构与所述晶圆夹持件传动连接,用于驱动所述晶圆夹持件沿轴向移动。本实用新型提供的用于晶圆电镀设备的盖子及晶圆电镀设备中,第二驱动机构可带动阴极晶圆沿轴向移动,可实现调节阴极晶圆的位置,可根据需要调节阳极与阴极晶圆之间的距离,从而调节阳极与阴极晶圆之间的电势差,可获得较佳的电镀效果,电镀精度高。

基本信息
专利标题 :
用于晶圆电镀设备的盖子及晶圆电镀设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020929023.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-27
授权号 :
CN213086144U
授权日 :
2021-04-30
发明人 :
王振荣刘红兵
申请人 :
上海新阳半导体材料股份有限公司
申请人地址 :
上海市松江区思贤路3600号
代理机构 :
上海脱颖律师事务所
代理人 :
李强
优先权 :
CN202020929023.1
主分类号 :
C25D7/12
IPC分类号 :
C25D7/12  C25D17/02  C25D17/06  C25D21/10  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D7/00
以施镀制品为特征的电镀
C25D7/12
半导体
法律状态
2021-04-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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