一种基于磁控溅射的光纤镀膜装置
授权
摘要
本申请涉及光纤镀膜技术领域，公开了一种基于磁控溅射的光纤镀膜装置，包括：镀膜腔室、靶材组件及光纤组件；靶材组件包括靶材、固定在靶材顶端的第一齿轮盘及底端的第二齿轮盘；光纤组件包括第一传导齿轮、第二传导齿轮、用于夹持光纤的第一光纤夹具及第二光纤夹具；第一光纤夹具的第一主轴与第一传导齿轮之间通过第一皮带轮实现同步传动；第二光纤夹具的第二主轴与第二传导齿轮之间通过第二皮带轮实现同步传动；镀膜腔室的顶部及底部对称开设有弧形限位槽，第一主轴及第二主轴能够共同沿着弧形限位槽进行移动，以改变光纤与靶材的间距。使用上述公开的装置进行光纤镀膜时，可以事先调节靶材与光纤之间的距离，进而提高最终的镀膜效果。
基本信息
专利标题 ：
一种基于磁控溅射的光纤镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021000770.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-03
授权号 ：
CN212247193U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
尹志军许皓炜崔国新陈玉桃许志城
申请人 ：
南京南智先进光电集成技术研究院有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市江北新区研创园团结路99号孵鹰大厦690室
代理机构 ：
北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
逯长明
优先权 ：
CN202021000770.3
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/54 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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