一种蒸镀遮挡设备
授权
摘要
本实用新型公开一种蒸镀遮挡设备，包括上下开口的本体、后盖、多个凹陷结构、进气口，所述后盖铰接在所述本体的上部，多个凹陷结构设置在所述本体的底部，所述凹陷结构的凹陷处设置在凹陷结构的上部，用于储存脱落的蒸镀材料，所述进气口设置在多个凹陷结构之间，用于使蒸镀材料的蒸汽通过。上述技术方案凹陷结构的凹陷处可以积累部分的蒸镀材料，防止蒸镀材料形成颗粒污染蒸镀设备，进而影响器件的性能和产品良率。同时减少开腔维护的次数。在开腔后，还可以对凹陷处处蒸镀材料进行回收，提升蒸镀材料的利用率。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸镀遮挡设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021197068.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-24
授权号 ：
CN212741507U
授权日 ：
2021-03-19
发明人 ：
郑沂庄丹丹
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州市景弘专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
林祥翔
优先权 ：
CN202021197068.0
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2021-03-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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