晶圆清洁系统
授权
摘要
本申请公开了一种晶圆清洁系统，包括承载台与清洁模组，清洁模组包括：固定柱，可移动至承载台上方；清洁刷体，至少部分位于固定柱的柱面；以及马达，位于所述固定柱的一端，通过轴承与固定柱连接，以驱动固定柱旋转，从而带动清洁刷体旋转，减少了马达与固定柱之间齿轮传动的环节，增加了清洁刷体旋转时的平稳度。还公开了一种晶圆清洁系统，其清洁模组中的液体循环器与驱动装置分别设置在固定柱的两端，达到了电液分离的效果，提高了安全性。
基本信息
专利标题 ：
晶圆清洁系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021286893.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-03
授权号 ：
CN212676222U
授权日 ：
2021-03-09
发明人 ：
张大伟
申请人 ：
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区未来三路88号
代理机构 ：
北京成创同维知识产权代理有限公司
代理人 ：
蔡纯
优先权 ：
CN202021286893.8
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-03-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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