本实用新型公开了一种柔性类氧化硅薄膜大面积生长装置，包括反应腔体、气路系统、控制系统、真空系统和尾气处理系统；反应腔体内部设置射频电极；射频电极下方设置气体混匀器，反应腔体的顶盖下方固定两个滚轴，两个滚轴之间卷绕有柔性衬底，两个滚轴之间设置有筒状的气体挡板，衬底穿过气体挡板；气体混匀器连接气路系统，反应腔体上开设气体出口一连接真空系统；气路系统包括六甲基硅氧烷储罐、氮气储罐、氧气储罐、和四氟化碳储罐，每个储罐分别通过分支管路连接反应腔体前端的主管路，主管路连接气体混匀器；本实用新型所公开的装置在室温下使用滚轴方式生长大面积柔性类氧化硅薄膜，生长速率快，尾气无污染，可作为很好的柔性绝缘介质材料。