本实用新型公开了一种柔性类氧化硅薄膜生长装置，包括反应腔体和与反应腔体连接的气路系统、控制系统、真空系统和尾气处理系统；反应腔体内部悬空水平设置射频电极，射频电极连接射频电源的正极，反应腔体连接射频电源的负极；射频电极下方设置气体混匀器，反应腔体的顶盖内侧固定用于沉积薄膜的衬底，气体混匀器连接气路系统，反应腔体上开设气体出口一连接真空系统；气路系统包括六甲基硅氧烷储罐、氮气储罐、氧气储罐、和四氟化碳储罐，每个储罐分别通过分支管路连接反应腔体前端的主管路，主管路连接气体混匀器。本实用新型所公开的装置可以在室温下制备柔性的类氧化硅薄膜，具有很好的封装性能，可作为很好的柔性绝缘介质材料使用。