一种蒸发源离子轰击刻蚀装置
授权
摘要
本实用新型涉及公开了一种蒸发源离子轰击刻蚀装置，其包括真空室，真空室后侧固定连接蒸发源，蒸发源前端面与真空室内部连通，蒸发源旁边设置有在真空室外部的弧电源，弧电源负极和蒸发源通过电线电性连接，蒸发源的前端面上固定连接Ti靶，Ti靶前侧设置挡板，挡板在真空室内，挡板转动连接在真空室右端面上，挡板前侧间隔设置有水冷阳极，水冷阳极在真空室内，弧电源正极和水冷阳极通过电线电性连接，水冷阳极前侧间隔设置工作转架，工作转架在真空室内，工作转架转动连接在真空室左端面上，真空室外部设置有偏压电源且偏压电源正极和真空室通过电线电性连接，偏压电源负极和工作转架通过电线电性连接，本发明具有快速对材料表面清洗刻蚀的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸发源离子轰击刻蚀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021511986.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-28
授权号 ：
CN213142162U
授权日 ：
2021-05-07
发明人 ：
卢国英石昌仑兰睿
申请人 ：
常州夸克涂层科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市武进区常武中路18号大连理工大学江苏研究院B座218-219
代理机构 ：
大连理工大学专利中心
代理人 ：
梅洪玉
优先权 ：
CN202021511986.6
主分类号 ：
C23C14/02
IPC分类号 ：
C23C14/02 C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/02
待镀材料的预处理
法律状态
2021-05-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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