本实用新型公开了一种用于多晶硅还原炉的清洗系统，包括两种清洗流程，一种包括连接有脱盐水单元、高纯水单元和热风单元的清洗底座，取消了碱液喷射清洗，避免了碱液循环使用过程中带来的杂质污染问题；另一种包括连接有脱盐水单元、碱液单元、高纯水单元和热风单元的清洗底座，通过对碱液进行过滤和排气处理，有效解决了碱液循环过程中的杂质污染，结合现有脱盐水预处理、高纯水喷射清洗以及热风烘干的工艺流程，能显著提高现有还原炉清洗效率，降低设备损耗。