一种用于晶体硅片的清洗设备
授权
摘要

本实用新型提供一种用于晶体硅片的清洗设备,属于太阳能电池制造技术领域,该用于晶体硅片的清洗设备包括底座,所述底座的上表面固定连接有箱体,所述箱体的上表面活动连接有箱盖,所述箱盖的中部开设有滑槽,所述滑槽的内部设置有滑块,所述滑块的中部开设有限位槽,所述限位槽的内部设有限位杆,所述限位杆的前后两侧均固定连接有连接板,该用于晶体硅片的清洗设备,使用时通过手推动滑块,滑块通过限位槽带动限位杆在滑槽中滑动,限位杆带动连接板,连接板带动硅片放置架,这样可以节省时间直接转换硅片在各槽之间的清洗,限位杆可以通过固定在不同高度限位槽调节清洗深度,观察槽可以直观的监察清洗过程。

基本信息
专利标题 :
一种用于晶体硅片的清洗设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021584568.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-04
授权号 :
CN214022278U
授权日 :
2021-08-24
发明人 :
王姜愉
申请人 :
宁波锦锐能源科技有限公司
申请人地址 :
浙江省宁波市高新区创苑路750号003幢8楼848室
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202021584568.X
主分类号 :
B08B3/04
IPC分类号 :
B08B3/04  B08B3/08  B08B13/00  H01L21/67  H01L31/18  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
法律状态
2021-08-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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