一种可调节建设管靶材组件
授权
摘要
本实用新型公开了一种可调节建设管靶材组件，包括靶材主体与转动机构，所述靶材主体上端轴心处设置有转动机构，所述靶材主体与转动机构套接固定，所述转动机构上端设置有连接柱，所述连接柱与转动机构点焊固定，本实用新型中通过将传统的一体式结构进行更改，这样在连接柱与外界的连接件相互连接的时候，在连接件与连接柱连接到底端时，从而可以更好的进行达到转动的效果，本实用新型中通过在靶材主体的上端轴心处设置有轴孔，这样可以通过轴孔将转动机构固定连接，并且转动机构可以在靶材主体的内部进行左右的旋转，这样可以使得在连接件连接时，通过旋转，避免了连接件与靶材主体相互接触，避免出现靶材主体表端出现划痕的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种可调节建设管靶材组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021610332.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-06
授权号 ：
CN213295492U
授权日 ：
2021-05-28
发明人 ：
邱根庆
申请人 ：
天津航通机械加工有限公司
申请人地址 ：
天津市东丽区经济开发区七经路8号C区1号厂房
代理机构 ：
北京久维律师事务所
代理人 ：
邢江峰
优先权 ：
CN202021610332.9
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-05-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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