一种布局紧凑合理的晶圆片双面刷洗机
授权
摘要
本实用新型涉及晶圆片刷洗机领域，特别涉及布局紧凑合理的晶圆片双面刷洗机。湿式上料机构设置在有机架上，包括用于存放晶圆片的上料晶舟盒，和存放上料晶舟盒的上料架。有机架包括x轴方向和y轴方向；湿式上料机构和湿式下料机构沿x轴方向并排设置在有机架的第一侧，清洗机构和移片机构设置在有机架的第三侧，取料机构设置在有机架的第二侧，放料机构设置在有机架的第四侧；其中，本实用新型通过将湿式上料机构和湿式下料机构并列设置在有机架的第一侧，便捷了工作人员对湿式上料机构和湿式下料机构上的上料晶舟盒和下料晶舟盒同时进行取放，减少了工作人员的劳动强度，提高了工作人员的工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种布局紧凑合理的晶圆片双面刷洗机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021645307.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-10
授权号 ：
CN213079293U
授权日 ：
2021-04-30
发明人 ：
薛小宾李伟
申请人 ：
深圳市赛平精密技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区西乡街道铁仔山公园路西成龙秋口工业区c栋一楼
代理机构 ：
深圳市宏德雨知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李捷
优先权 ：
CN202021645307.4
主分类号 ：
B08B3/02
IPC分类号 ：
B08B3/02 B08B1/04 B08B13/00 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2021-04-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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