一种用于化学气相沉积的晶圆传输装置
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摘要

本实用新型提供一种用于化学气相沉积的晶圆传输装置,涉及半导体制造技术领域,包括框体与晶圆,所述框体上方设有所述晶圆,所述晶圆底部设有支撑块,所述支撑块穿过所述框体一侧设有支撑板,所述支撑板一侧设有转轴,所述转轴上设有压板,所述压板底部设有弹簧,所述压板通过所述弹簧相连一侧设有底块,所述底块与所述支撑板相连,所述压板一端设有两个圆块,所述框体一侧设有细槽;所述框体两侧壁设有螺纹轴,所述螺纹轴两端设有转动块,所述转动块底部设有固定块,所述转动块一侧设有转动细轴,所述转动细轴一端设有平移块,所述固定块一侧设有滑槽。本实用新型结构稳定,实用性高。

基本信息
专利标题 :
一种用于化学气相沉积的晶圆传输装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021645322.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-10
授权号 :
CN212695131U
授权日 :
2021-03-12
发明人 :
王宜
申请人 :
江苏斯米克电子科技有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市滨湖区高运路109号
代理机构 :
南京常青藤知识产权代理有限公司
代理人 :
史慧敏
优先权 :
CN202021645322.9
主分类号 :
H01L21/677
IPC分类号 :
H01L21/677  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/677
用于传送的,例如在不同的工作站之间
法律状态
2021-03-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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