parylene真空纳米镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了parylene真空纳米镀膜设备，包括输送管，所述输送管的一端开设有螺纹孔，所述输送管的一端固定安装有第二固定法兰盘，所述螺纹孔的内部安装有调节装置，所述调节装置的中部安装有螺纹调节柱，所述螺纹调节柱的底端固定安装有挤压调节球，所述螺纹调节柱的上端固定连接有旋拧手轮，所述输送管的内部安装有控制装置，所述控制装置中安装有锥形输料管，所述锥形输料管的前端固定安装有进料管，所述进料管远离锥形输料管的一端固定连接有第一固定法兰盘，所述锥形输料管远离进料管的一端均匀固定安装有支撑弹簧。本实用新型使用过程中可以快速方便的对裂解后的活性单体的输送速度和输送量根据使用的需要进行快速的控制，使得镀膜符合要求。
基本信息
专利标题 ：
parylene真空纳米镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021690948.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-14
授权号 ：
CN213266695U
授权日 ：
2021-05-25
发明人 ：
浦招前
申请人 ：
苏州派华纳米科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区渭塘镇钻石路2008号5号楼3层
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021690948.1
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C16/52
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2021-05-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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