一种石英舟硅片及沉积用装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种石英舟及硅片沉积用装置，其中石英舟包括支撑件和底载物件，其中支撑件沿横向方向间隔设置有一对。底载物件的两端分别与相应的支撑件连接固定，所述底载物件上设置有若干沿横向方向间隔设置的卡齿、形成于相邻两卡齿之间的卡槽和向上突设于所述卡槽内的突伸结构，在横向方向上所述突伸结构中间高两边低。本实用新型在石英舟的卡槽内设置突伸结构使原本贴合在一起的两个电池片在突伸结构的作用下分隔开从而方便实现在背面形成多晶硅层的时候在正面也形成多晶硅层以对电池的正面进行保护。该实施例的石英舟在保证电池片的产能的基础上能够更好的对电池片的正面形成保护，提高了电池片的品质和生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种石英舟硅片及沉积用装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021863289.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-31
授权号 ：
CN212848334U
授权日 ：
2021-03-30
发明人 ：
张临安沈雯邓伟伟
申请人 ：
苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市高新区鹿山路199号
代理机构 ：
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
胡彭年
优先权 ：
CN202021863289.7
主分类号 ：
H01L21/673
IPC分类号 ：
H01L21/673 H01L31/18
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/673
使用专用的载体的
法律状态
2021-03-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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