清洗离子源挡板
授权
摘要
本实用新型公开了清洗离子源挡板，包括离子源、第一驱动气缸、第二驱动气缸、第一挡板和第二挡板，所述离子源的后侧面的两侧顶端分别固定安装有第一驱动气缸和第二驱动气缸，所述第一驱动气缸上转动安装有第一旋转轴，所述第二驱动气缸上转动安装有第二旋转轴。本实用新型通过加装第一挡板和第二挡板，在第一驱动气缸和第二驱动气缸的驱动下可发生偏转，将离子源完全遮蔽或者暴露，具有结构简单以及成本低廉的特点，能够有效保护离子源沟道免受污染，提高离子源的使用周期；通过设置第一锁块与第二锁块，在打开装置或闭合装置时，只需移动定位柱，就能使第一锁块与第二锁块分开或锁定，其结构巧妙，操作简单，能够防止挡板之间出现间隙。
基本信息
专利标题 ：
清洗离子源挡板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021905526.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-02
授权号 ：
CN213388859U
授权日 ：
2021-06-08
发明人 ：
乔利杰宋述兵王瑞俊王博
申请人 ：
山东司莱美克新材料科技有限公司
申请人地址 ：
山东省淄博市桓台县果里镇创智谷B5一层
代理机构 ：
淄博市众朗知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
程强强
优先权 ：
CN202021905526.1
主分类号 ：
C23C14/02
IPC分类号 ：
C23C14/02 C23C14/46
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/02
待镀材料的预处理
法律状态
2021-06-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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