一种芯片制造氧化设备的导流板
授权
摘要

本实用新型公开了一种芯片制造氧化设备的导流板,包括底板和顶板,所述底板上固定有四个立筒,所述立筒内均滑动套接有滑动柱,所述滑动柱固定连接有支撑板、且固定在支撑板的底部,所述底板的中心位置处固定有液压缸,所述液压缸的输出轴固定在支撑板的底部,所述支撑板上方安装有端部安装组件和侧边安装组件,所述端部安装组件和侧边安装组件组合固定有导流板,所述顶板底部通过连接架悬挂有芯片,所述芯片位于导流板的上方。本实用新型操作简单、便于更换导流板、有效的控制了气流流过导流板时的大小。

基本信息
专利标题 :
一种芯片制造氧化设备的导流板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021917671.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-05
授权号 :
CN212517133U
授权日 :
2021-02-09
发明人 :
李秀娟
申请人 :
李秀娟
申请人地址 :
广东省广州市黄埔区茅岗东福新村二十二巷7号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202021917671.1
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-02-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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