一种半导体芯片制造设备
专利权质押合同登记的生效、变更及注销
摘要
本实用新型公开了一种半导体芯片制造设备,包括外壳、支块和底座,所述外壳的底端四角均固接有支块,所述支块的底端固接有底座,所述外壳的内部顶端安装有喷液装置,所述外壳的底端内部安装有旋转装置,所述旋转装置的顶端安装有翻转构件。该半导体芯片制造设备,通过第一电机、第一伞型齿轮、第二伞型齿轮、竖杆和转盘的配合使用,达到了可以带动翻转构件旋转进行制造工作,通过支杆、转杆、下夹板、弹簧和上夹板的配合使用,达到了可以对需要加工的芯片进行夹紧翻转工作,通过支架、第二电机、第一皮带轮、皮带和第二皮带轮的配合使用,达到了可以对翻转构件提供动力,达到了可以多角度的进行芯片制造工作。
基本信息
专利标题 :
一种半导体芯片制造设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020956574.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-31
授权号 :
CN212391703U
授权日 :
2021-01-22
发明人 :
不公告发明人
申请人 :
深圳市景森技术有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙岗区园山街道龙岗大道8288号大运软件小镇8栋2楼202
代理机构 :
北京众达德权知识产权代理有限公司
代理人 :
刘杰
优先权 :
CN202020956574.7
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16 H01L21/67
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2021-12-17 :
专利权质押合同登记的生效、变更及注销
专利权质押合同登记的生效IPC(主分类) : G03F 7/16
登记号 : Y2021980013809
登记生效日 : 20211201
出质人 : 深圳市景森技术有限公司
质权人 : 深圳市高新投小额贷款有限公司
实用新型名称 : 一种半导体芯片制造设备
申请日 : 20200531
授权公告日 : 20210122
登记号 : Y2021980013809
登记生效日 : 20211201
出质人 : 深圳市景森技术有限公司
质权人 : 深圳市高新投小额贷款有限公司
实用新型名称 : 一种半导体芯片制造设备
申请日 : 20200531
授权公告日 : 20210122
2021-01-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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