一种晶体生长坩埚内部气压监测装置

授权

摘要

本实用新型提供一种晶体生长坩埚内部气压监测装置，包括底座、出料管和坩埚，所述底座的顶部外壁通过螺栓固定有支柱，所述支柱的顶部外壁与坩埚的顶部外壁通过螺栓固定连接，所述坩埚的顶部外壁开设有通孔，穿过通孔在坩埚的顶部外壁通过螺钉固定有测试管，所述测试管的一侧外壁通过螺栓固定有阀门，且测试管的一侧外壁套接有压力显示机构。本实用新型通过设置有螺纹杆、托板、滑块、弹簧、弧形挡板、触发器和显示灯，转动螺纹杆带动托板通过滑块在测试箱的内壁滑轨内向下或向下滑动，改变弧顶挡板与触发器之间的距离，可以执行不同压力需求时通过显示灯进行及时报警的目的，可以实现对不同晶体生长环境的监测效果，实用性提高。

基本信息

专利标题：

一种晶体生长坩埚内部气压监测装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022243673.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-10-10

授权号：

CN213739775U

授权日：

2021-07-20

发明人：

唐华纯

申请人：

上海御光新材料科技股份有限公司

申请人地址：

上海市嘉定区城北路1355号C幢2楼

代理机构：

上海浙晟知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

杨秀伟

优先权：

CN202022243673.3

主分类号：

C30B11/00

IPC分类号：

C30B11/00