一种新型靶材保护系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种新型靶材保护系统，其特征在于：包括挡片（16）和挡片开闭机构（1），两者位于第一腔室（2）中，所述挡片（16）位于靶材（13）与基片（21）之间，所述挡片（16）通过所述挡片开闭机构（1）实现开启或关闭。本实用新型通过传动机构推动挡片开合阻止大颗粒物质对靶材的影响以达到靶材保护的目的。并且操作方便，保护效果好，应用范围广等特点。
基本信息
专利标题 ：
一种新型靶材保护系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022375498.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-23
授权号 ：
CN213739650U
授权日 ：
2021-07-20
发明人 ：
时昌茹
申请人 ：
深圳市绿谷离子镀膜科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区粤海街道科技园社区科发路2号30区3栋202-A23
代理机构 ：
宁波高新区核心力专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
涂萧恺
优先权 ：
CN202022375498.3
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-07-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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