一种用于PERC电池生产的磁控溅射镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于PERC电池生产的磁控溅射镀膜装置，涉及PERC电池生产技术领域。本实用新型包括真空室、基板本体、靶体和基板接线件，真空室内底部通过若干垫块固定有极板，极板顶部固定有磁极，磁极顶部固定有铜背板，靶体底部固定有靶座。本实用新型通过在真空室内设置隔板能够将真空室分隔为操作腔和真空腔，通过在隔板上设置定位板和支撑沿便于基板本体的定位，通过设置抽气管和橡胶吸盘能够固定基板本体的位置，通过在操作腔内设计新型的基板接线件，方便接地线与基板之间的连接，同时在极板上设置支沿和螺钉能够实现靶体位置的定位和固定，解决了现有的基板本体和靶体不易定位、安装、拆除和更换的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种用于PERC电池生产的磁控溅射镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022376470.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-23
授权号 ：
CN213652626U
授权日 ：
2021-07-09
发明人 ：
赵卫东杨冬琴李永仓李向华张敏健李凌宇
申请人 ：
江苏东鋆光伏科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市江阴市华士镇海达路５８号
代理机构 ：
江阴市轻舟专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙燕波
优先权 ：
CN202022376470.1
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/06 C23C14/50 H01L31/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-07-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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