一种可调的化学气相沉淀装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种可调的化学气相沉淀装置，包括沉淀筒、气体均布件、晶圆布置件；晶圆布置件的侧壁上均匀设置有若干用来安装晶圆的夹筒；夹筒包括上下对称设置上夹持臂和下夹持臂；上夹持臂固定设置在晶圆布置件的外侧壁上；下夹持臂与晶圆布置件进行上下方向的滑动连接；下夹持臂的下壁面上连接有调节丝杆；下夹持臂下方的晶圆布置件上设置有控制座，控制座内转动连接有调节螺母；调节丝杆与调节螺母进行螺纹连接。本实用新型中夹筒的结构设置，当转动调节螺母时，调节丝杆会实现上下运动，从而带动下夹持臂靠近上夹持臂或远离上夹持臂，从而使上夹持臂与下夹持臂之间能够夹持不同粗细大小的晶圆，增大了适用性。
基本信息
专利标题 ：
一种可调的化学气相沉淀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022389339.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-24
授权号 ：
CN213357745U
授权日 ：
2021-06-04
发明人 ：
牛新海李志坤
申请人 ：
青岛微弘设备技术有限公司
申请人地址 ：
山东省青岛市城阳区城阳街道前桃林社区居委会南800米
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202022389339.9
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458 C23C16/455 C23C16/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2021-06-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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