一种新型低压化学气相沉淀高真空系统
授权
摘要
本实用新型提供一种新型低压化学气相沉淀高真空系统，包括机组骨架和机台，所述机组骨架内安装螺杆式干泵，且机组骨架上端面安装罗茨泵，所述罗茨泵通过管道与螺杆式干泵相连接，且罗茨泵上安装真空管道一，所述真空管道一另一端安装压力调节阀，所述压力调节阀另一端安装快抽阀，所述快抽阀另一端安装真空管道二，所述真空管道二另一端连接冷阱出气口，且真空管道二环形侧面上安装慢抽阀，所述冷阱进气口安装抽气法兰，所述机台下端面中部位置安装U型条，且机台下侧设置集灰板，所述集灰板上端面中间位置安装条形板，与现有技术相比，本实用新型具有如下的有益效果：给工艺片的生长提供更好更洁净的本底，机台下侧灰尘清理便捷。
基本信息
专利标题 ：
一种新型低压化学气相沉淀高真空系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920715037.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-19
授权号 ：
CN210065917U
授权日 ：
2020-02-14
发明人 ：
刘洋
申请人 ：
青岛华旗科技有限公司
申请人地址 ：
山东省青岛市城阳区流亭街道双元路西
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920715037.0
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2020-02-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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