低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置
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摘要
本实用新型给出了一种低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置，包括补气管，补气管端部开有补气口；还包括冷却管和堵头，冷却管设有供冷却介质通过的内孔，冷却管在补气管的出气口处节距盘绕呈多线圈状的导流弹簧段，处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间具有间隙，堵头设置在冷却管的导流段远离补气管一侧端部处。冷却管通入冷却气体，进而导流弹簧段的冷却管对补气管进行冷却，将补气管温度下降，镀膜反应气体的温度控制在反应温度以下，反应物不会沉积在补气管的管壁及补气口处；处于导流弹簧段的相邻冷却管线圈之间设有间隙，镀膜反应气体通过该间隙，达到出气缝的效果，提高镀膜工件的膜层均匀度。
基本信息
专利标题 ：
低压化学气相沉积真空管式炉的补气装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920669084.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-10
授权号 ：
CN209974885U
授权日 ：
2020-01-21
发明人 ：
葛怀庆练菊房如枫彭为报王红美孙嵩泉
申请人 ：
普乐新能源（蚌埠）有限公司
申请人地址 ：
安徽省蚌埠市汤和路268号
代理机构 ：
蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司
代理人 ：
王琪
优先权 ：
CN201920669084.6
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-01-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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