清洗机
授权
摘要
本实用新型公开了一种清洗机，包括由隔板相连接的蚀刻槽、过渡槽和水洗槽，蚀刻槽、过渡槽和水洗槽之间贯穿有滚筒输送线；还包括两个风刀组件，两个风刀组件间隔设于过渡槽内，其中一个风刀组件的位置靠近蚀刻槽，另一个风刀组件的位置靠近水洗槽。本实用新型在蚀刻槽和水洗槽之间设有过渡槽，能够增大蚀刻槽和水洗槽的间距，有效防止窜液的现象，而且在过渡槽内设有两个风刀组件，一个风刀组件的位置靠近蚀刻槽，另一个风刀组件的位置靠近水洗槽，通过吹风的方式将晶圆表面残留的液体赶去，进一步防止窜液的现象。
基本信息
专利标题 ：
清洗机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022456596.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-29
授权号 ：
CN213519876U
授权日 ：
2021-06-22
发明人 ：
倪裕林徐新志尹旺王健忠
申请人 ：
昆山蕴鼎自动化科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市陆家镇金阳东路1068号20号房一层
代理机构 ：
苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李柏柏
优先权 ：
CN202022456596.X
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 F26B21/00 F26B25/00 B08B3/02
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-06-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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