Li离子导体及其制造方法
实质审查的生效
摘要
本发明为一种Li离子导体，其具有包含Li、La、Zr及O的石榴石型复合金属氧化物相(L)，所述Li离子导体在使用CuKα射线的X射线衍射测定中，在2θ＝13.8°±1°及15.2°±1°中的至少一处具有衍射峰。该Li离子导体具有与前述相(L)不同的含金属相(K)，该相(K)优选包含卤素元素及Li。
基本信息
专利标题 ：
Li离子导体及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114365318A
申请号 ：
CN202080063450.9
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2020-09-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金井和章斋藤健
申请人 ：
株式会社钟化
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202080063450.9
主分类号 ：
H01M10/0562
IPC分类号 ：
H01M10/0562 H01M10/0525 H01B1/08 H01B1/06 C04B35/50
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01M 10/0562
申请日 : 20200908
申请日 : 20200908
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
