具有针对硅氮化物和多晶硅相对于硅氧化物的高选择性的抛光组...
公开
摘要
本发明提供化学机械抛光组合物，其包含：(a)包含铈土颗粒的研磨剂，(b)阳离子聚合物，其选自阳离子均聚物、包含至少一种阳离子单体及至少一种非离子单体的阳离子共聚物、及其组合，(c)季铵盐或季盐，及(d)水，其中该抛光组合物具有约5至约8的pH。本发明还提供化学机械抛光基板、尤其是包含硅氧化物、硅氮化物及/或多晶硅的基板的方法，其是藉由使该基板与本发明化学机械抛光组合物接触。
基本信息
专利标题 ：
具有针对硅氮化物和多晶硅相对于硅氧化物的高选择性的抛光组合物及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114599753A
申请号 ：
CN202080074249.0
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2020-10-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
B.佩特罗张柱然B.约翰逊
申请人 ：
CMC材料股份有限公司
申请人地址 ：
美国伊利诺伊州
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
邢岳
优先权 ：
CN202080074249.0
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 H01L21/3105 H01L21/321
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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