蚀刻液的评估方法
授权
摘要
本申请公开了一种蚀刻液的评估方法，具体包括：在第一基板上形成第一膜层。在第一膜层上形成第二膜层。在第二膜层上形成具有预设图案的第一蚀刻阻挡层。对第二膜层进行蚀刻以暴露出第一膜层。使用待测蚀刻液对第一膜层进行蚀刻以得到第一膜层的实际蚀刻图案。获取实际蚀刻图案的实际蚀刻参数。预设第一膜层的参考蚀刻图案，获取参考蚀刻图案的参考蚀刻参数。比较参考蚀刻参数与实际蚀刻参数，以评估待测蚀刻液。本申请提供的蚀刻液的评估方法可以提高蚀刻液的开发效率，避免了资源浪费。
基本信息
专利标题 ：
蚀刻液的评估方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113341070A
申请号 ：
CN202110578218.5
公开（公告）日 ：
2021-09-03
申请日 ：
2021-05-26
授权号 ：
CN113341070B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
赵文群秦文谭芳
申请人 ：
TCL华星光电技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
远明
优先权 ：
CN202110578218.5
主分类号 ：
G01N33/00
IPC分类号 ：
G01N33/00 C23F1/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N33/00
利用不包括在G01N1/00至G01N31/00组中的特殊方法来研究或分析材料
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2021-09-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 33/00
申请日 : 20210526
申请日 : 20210526
2021-09-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
