多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液以及蚀刻方法
授权
摘要
本发明提供一种蚀刻液，用于蚀刻膜厚较厚的铜层和基底钛层的多层膜，该蚀刻液即使在金属离子浓度达到8000ppm以上时也能够使用。该蚀刻液含有(a)过氧化氢、(b)氟离子供给源、(c)唑类、(d)过氧化氢稳定剂、(e)有机酸、(f)胺类和(g)水，所述有机酸使用甲磺酸与选自乳酸、琥珀酸、戊二酸、丙二酸中的一种有机酸，或者单独使用乳酸。
基本信息
专利标题 ：
多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液以及蚀刻方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111094627A
申请号 ：
CN201780094862.7
公开（公告）日 ：
2020-05-01
申请日 ：
2017-09-29
授权号 ：
CN111094627B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
白滨祐二着能真
申请人 ：
松下知识产权经营株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN201780094862.7
主分类号 ：
C23F1/18
IPC分类号 ：
C23F1/18 C23F1/26 H01L21/28 H01L21/308
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23F
非机械方法去除表面上的金属材料；金属材料的缓蚀；一般防积垢；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法的多步法金属材料表面处理
C23F1/00
金属材料的化学法蚀刻
C23F1/10
蚀刻用组合物
C23F1/14
含水组合物
C23F1/16
酸性组合物
C23F1/18
蚀刻铜或铜合金用的
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2020-05-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23F 1/18
申请日 : 20170929
申请日 : 20170929
2020-05-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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