半导体装置
公开
摘要
一种半导体装置可包括：衬底，其包括凹部；栅极绝缘层，其在凹部的表面上；杂质屏障层，其在栅极绝缘层的表面上以覆盖栅极绝缘层的表面；第一栅极图案，其在杂质屏障层上以填充凹部的下部；第二栅极图案，其在凹部中的第一栅极图案上；封盖绝缘图案，其在第二栅极图案上以填充凹部；以及杂质区域，其在与凹部的上侧壁相邻的衬底处。杂质屏障层的氮的浓度可高于包括在栅极绝缘层中的氮的浓度。第二栅极图案可包括与第一栅极图案的材料不同的材料。杂质区域的下表面可高于第一栅极图案的上表面。因此，半导体装置可具有良好的特性。
基本信息
专利标题 ：
半导体装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114597211A
申请号 ：
CN202111483604.2
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2021-12-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
尹成美金主烨金旲炫魏胄滢任桐贤郑天炯
申请人 ：
三星电子株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵南
优先权 ：
CN202111483604.2
主分类号 ：
H01L27/108
IPC分类号 ：
H01L27/108 H01L29/423
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27/00
由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27/02
包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27/04
其衬底为半导体的
H01L27/10
在重复结构中包括有多个独立组件的
H01L27/105
包含场效应组件的
H01L27/108
动态随机存取存储结构的
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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