集成芯片及其制作方法和集成电路
实质审查的生效
摘要

申请公开了一种集成芯片及其制作方法和集成电路,集成芯片包括衬底、外延层、隔离结构、氮化镓高电子迁移率晶体管和表面声波滤波器,所述隔离结构将所述外延层划分第一外延层和压电层,并将所述氮化镓高电子迁移率晶体管和所述表面声波滤波器隔离;所述氮化镓高电子迁移率晶体管包括设置在所述第一外延层上的源极、漏极和栅极;所述表面声波滤波器包括设置在所述压电层上的第一叉指换能器和第二叉指换能器;所述氮化镓高电子迁移率晶体管和所述表面声波滤波器通过金属导线互联。通过上述设计,将射频前端中的氮化镓高电子迁移率晶体管和表面声波滤波器做到一个芯片上,从而增加射频器件的集成度,达到减小器件面积、降低损耗、提升器件总体性能的目的。

基本信息
专利标题 :
集成芯片及其制作方法和集成电路
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114497114A
申请号 :
CN202111626462.0
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2021-12-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
樊永辉许明伟樊晓兵
申请人 :
深圳市汇芯通信技术有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市华富街道莲花一村社区皇岗路5001号深业上城(南区)T2栋2701
代理机构 :
深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
邢涛
优先权 :
CN202111626462.0
主分类号 :
H01L27/20
IPC分类号 :
H01L27/20  H01L21/335  H01L29/778  H01L41/29  H03H3/08  H03H9/02  H03H9/64  
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/20
申请日 : 20211228
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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