本实用新型公开了一种深反应干法离子刻蚀装置，涉及到微电子设备技术领域，包括处理箱，处理箱的一侧中部固定连接有驱动电机，驱动电机的输出轴固定连接有安装盘，安装盘的一侧开设有三个呈环形阵列分布的滑槽，滑槽的一端内壁固定连接有弹簧伸缩杆，弹簧伸缩杆的一端固定连接有夹板。本实用新型通过设置驱动电机和安装盘，驱动电机可以带动安装盘转动，进而带动工件转动，保证了工件表面可以被均匀刻蚀，通过设置环形板，环形板一侧设置有加热管，可以实现对工件的加热，通过设置螺杆和螺纹槽，使得环形板和加热管的位置可以调节，进而使得装置可以适配各种类型的工件，使得装置的实用性和功能性得到提升。